TOKYO BOEKI - официальный дистрибьютор Minimal Fab на территории России, странах СНГ и Европе
RU | EN
ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ЛИНИИ
Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

Minimal Multi-Target Sputtering (2)

Minimal Multi-Target Sputtering - Установка магнетронного распыления на 3 мишени с использованием заслонок.Возможно многослойное осаждение пленок. Наличие функции обратного распыления подложки.
Количество мишеней: до 3 шт. (на выбор Al, Ti, Pt, Au)


Источник магнетронного распыления с тремя заслонками

Спецификация

Размеры и вес оборудования
Размеры Ш х В х Г:294х1440х450 мм
Подключение
Питание 1 фаза,~100В, 10А, 50/60 Гц
Газ Сжатый воздух, N2
Рабочий газ Ar (опция O2, N2)
Вакуумная система
Система загрузки подложки Vac PLAD
Вакуумная откачка турбомолекулярный насос + сухой насос
Предельный уровень вакуума 5×10-5Па
Конфигурация устройства напыления
Источник распыления Магнетронс частотой RF2
Подложка 12.5 мм
Высокочастотный источник (RF) Частота: 13,56 Гц