Minimal Ion Beam Sputtering
Minimal Ion Beam Sputtering - Установка ионно-лучевого распыления. Возможно осаждение под низким давлением. Количество мишеней: до 6 шт.
Minimal Ion Beam Sputtering - Установка ионно-лучевого распыления. Возможно осаждение под низким давлением. Количество мишеней: до 6 шт.