Minimal LP-CVD
![](/assets/templates/main/img/equipment/osazhdenie/minimal-lp-cvd/lp-cvd-1.jpg)
Minimal LP-CVD - Установка химического парофазного осаждения при пониженном давлении с использованием метода резистивного нагрева.
Осаждение пленки поли-Si, SiN.
Minimal LP-CVD - Установка химического парофазного осаждения при пониженном давлении с использованием метода резистивного нагрева.
Осаждение пленки поли-Si, SiN.