Minimal LP-CVD

Minimal LP-CVD - Установка химического парофазного осаждения при пониженном давлении с использованием метода резистивного нагрева.
Осаждение пленки поли-Si, SiN.
Minimal LP-CVD - Установка химического парофазного осаждения при пониженном давлении с использованием метода резистивного нагрева.
Осаждение пленки поли-Si, SiN.