TOKYO BOEKI - официальный дистрибьютор Minimal Fab на территории России, странах СНГ и Европе
RU | EN
ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ЛИНИИ
Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

RCA Station

Minimal RCA Station - Установка очистки поверхности подложки от металлических частиц с двумя камерами обработки.

Описание:

  • Minimal RCA Station имеет две камеры обработки поверхности подложки внутри оборудования: SC-1 (NH4OH+H2O2) и SC-2 (HCl+H2O2), HF, поэтому с помощью одного оборудования можно выполнять кислотные и щелочные процессы.
  • Система подачи жидкости сверхмалого количества позволяет очень точно контролировать подачу обрабатывающей жидкости, такой как жидкость для очистки и жидкость для травления.
  • Можно выбирать между процессом с повышение температуры и процессом при комнатной температуре. В процессе нагревания обрабатывающая жидкость на пластине нагревается снизу пластины с помощью специальной галогенной лампы.
  • Установка оснащена специальным ультразвуковым преобразователем для дополнительной очистки.
  • Вредные выхлопные газы, образующиеся в процессе обработки, обезвреживаются внутри оборудования.

Основные характеристики

Химические реактивы

Каждый химический раствор расположен в отдельном картридже. Замена и пополнение картриджа химическим раствором можно делать в процессе работы установки.

Визуализация процесса

Установленная камера позволяет в режиме реального времени наблюдать и контролировать процесс очистки.

Подогрев реактивов

Меньше потерь жидкости при нагреве с обратной стороны подложки. Контроль температуры жидкости устанавливается в режиме реального времени.

Капельная технология очистки

Благодаря малому размеру подложки и хорошему поверхностному натяжению расход реактивов составляет единицы мл.

Пример данных очистки (частицы загрязнения: частицы кремнезема)

Перед очисткой
После очистки

Спецификация

Размеры и вес оборудования
Размеры Ш х В х Г:294х1440х450 мм
Вес 90 кг (без химических реактивов)
Подключение
Питание 1 фаза, ~100В, 10А, 50/60 Гц
Сжатый воздух 0,5 МПа,20 л/мин
Азот (газ) 0,3 МПа, 5 л/мин
Общий выхлоп 400 л/мин
Конфигурацияу стройства
Система загрузки подложки Air PLAD
Задвижка Заслонка резинового типа
Камера очистки Закрытого типа, двухкамерная
Используемые химикаты
Общего пользования Деионизированная вода DIW (15МОм*см или более)
SC-1 NH4OH,H2O2
SC-2 HCl, H2O2,HF
Процессорная камера
Столик вращения Подложка:12,5 мм
Максимальна скорость вращения: 3 000 об/мин
Дополнительная очистка Ультразвуковой преобразователь с сапфировой пластиной: 1МГц/ 5Вт
Нагрев Галогеновая лампа
Поддержка качества DIW Поддержка до 17МОм*см путемциркуляции внутри устройства

Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, Vol.133 No.9 pp.272-277.
2. Shiro Hara, SEAJ Journal 2014, 4 No. 145, p.20.
3. Norio Umeyama, Atsushi Yamazaki, Takaaki Sakai, Sommawan Khumpuang, Shiro Hara, Development of a Half-Inch Wafer for Minimal Fab Process, IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference Proceedings of Technical Papers, 2017, P-25, p.228.

Minimal RCA Station - Установка для двусторонней очистки подложки. RCA очистительная машина позволяет смешивать, контролировать количество и регулировать температуру каждого химического вещества непосредственно перед сливом очищающего раствора.

Описание:

  • Двух стадийная очистка подложки (встроенный поточный нагрев жидкости, повышение давления N2 в камере).
  • Установлена циркуляция сверхчистой воды (поддержание высокого удельного сопротивления, удаление растворенного кислорода).
  • Установлен циркуляционный фильтр для каждого химического раствора.
  • Установлен скруббер для удаления выхлопных газов.
  • Высокая воспроизводимость взвешивания химических растворов и простое изменение настроек коэффициента смешивания.
  • Оснащен большой бутылкой чистой воды (2 л) и бутылкой для жидких отходов (2,5 л).
  • Бесконтактная очистка (только точечный контакт).

Блок циркуляции сверхчистой воды

Поддержание высокого удельного сопротивления. Установка внутри оснащена блоком циркуляции DIW для поддержания высокого уровня удельного сопротивления, блоком дегазации и УФ-блоком для удаления растворенного кислорода и стерилизацией органических веществ.

Химический жидкостный весовой агрегат


Спецификация

Размеры и вес оборудования
Размеры Ш х В х Г: 294х1440х450 мм
Подключение
Питание 1 фаза, ~100В, 10А, 50/60 Гц
Сжатый воздух 0,4 МПа
Азот (газ) 0,6 МПа
Общий выхлоп 200 Па, 500 л/мин
Конфигурация устройства
Система загрузки подложки Air PLAD
Задвижка Заслонка резинового типа
Камера очистки Закрытого типа, двухкамерная
Используемые химикаты
Общего пользования Деионизированная вода DIW (15МОм*см или более)
SC-1 NH4OH, H2O2
SC-2 HCl, H2O2,HF
Процессорная камера
Столик вращения Подложка: 12,5 мм
Максимальна скорость вращения:6 000 об/мин
Внутрикамерная атмосфера Внутрикамерная атмосфера N2,всегда положительное давление с атмосферой 200 кПа или более
Нагрев Галогеновая лампа, до 80°С
Система очистки DIW Циркуляции внутри устройства

Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, Vol.133 No.9 pp.272-277.
2. Shiro Hara, SEAJ Journal 2014, 4 No. 145, p.20.
3. Norio Umeyama, Atsushi Yamazaki, Takaaki Sakai, Sommawan Khumpuang, Shiro Hara, Development of a Half-Inch Wafer for Minimal Fab Process, IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference Proceedings of Technical Papers, 2017, P-25, p.228.