Minimal Laser Heating

Minimal Laser Heating – Установка нагрева подложки лазерным пучком (макс. 1200°C за 1.5 сек). Для диаметра пластины φ12,5 мм изменение толщины оксидной пленки в пределах φ10 мм составляет менее 1% (1σ). Обеспечивает динамическое отслеживание температуры процесса с точным контролем температуры. Длительный срок службы лазера и снижение затрат на обслуживание.

Общая структура установки Minimal Laser Heating:

Пример отжига подложки:

Отжиг подложки двумя лазерами для равномерного и однородного нагрева:

 

Пример сверхскоростного и прецизионного нагрева в Minimal Laser Heating.

Спецификация

Размеры и вес оборудования
Размеры	Ш х В х Г:294х1440х450 мм
Подключение
Питание	1 фаза,~100В, 10А, 50/60 Гц
Газ	Сжатый воздух, N2
Рабочий газ	Встроенный баллон
Конфигурация устройства
Мощность лазера	макс. 130Вт + 80 Вт
Длина волны лазера	880 нм + 940 нм
Система загрузки подложки	Air PLAD
Подложка	13 мм
Откачка	Диафрагменный насос
Нагрев	Лазерный
Процессы	Термическое окисление (сухое). Термодиффузия. Отжиг. Спекание.

 

Сравнение основных характеристик модулей Minimal Fab:
Resistance Furnace, Focused Light Heating и Laser Heating.

 

Сравнение скорости нагрева и охлаждения в модулях Minimal Fab:
Resistance Furnace, Focused Light Heating и Laser Heating.

Литература:
1. Yongxun Liu, Kazushige Sato, Hiroyuki Tanaka, Kazuhiro Koga, Sommawan Khumpuang, Masayoshi Nagao, Takashi Matsukawa, and Shiro Hara, "RTA-Temperature Dependence of Electrical Characteristics of PVD-TiN Metal Gate SOI-MOSFETs Fabricated on Half-Inch Minimal Wafers", International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM), Tokyo, 2018/9.