Minimal Laser Heating
Minimal Laser Heating - Установка лазерного отжига с нагревом обратной стороны подложки.
Обеспечивает динамическое отслеживание температуры процесса с точным контролем температуры. Длительный срок службы лазера и снижение затрат на обслуживание.
Рис. 1. Общая структура установки Minimal Laser Heating.
Пример отжига подложки:
Отжиг подложки двумя лазерами для равномерного и однородного нагрева:
Облучение подложки одним лазером
Облучение подложки двумя лазерами
Спецификация
| Размеры и вес оборудования | |
|---|---|
| Размеры | Ш х В х Г:294х1440х450 мм |
| Подключение | |
| Питание | 1 фаза,~100В, 10А, 50/60 Гц |
| Газ | Сжатый воздух, N2 |
| Рабочий газ | Встроенный баллон |
| Конфигурация устройства | |
| Мощность лазера | макс. 130Вт + 80 Вт |
| Длина волны лазера | 880 нм +940 нм |
| Система загрузки подложки | Air PLAD |
| Подложка | 13 мм |
| Откачка | Диафрагменный насос |
| Нагрев | Лазерный |
| Процессы | Термическое окисление(сухое). Термодиффузия. Отжиг. Спекание. |
Литература:
1. Yongxun Liu, Kazushige Sato, Hiroyuki Tanaka, Kazuhiro Koga, Sommawan Khumpuang, Masayoshi Nagao, Takashi Matsukawa, and Shiro Hara, "RTA-Temperature Dependence of Electrical Characteristics of PVD-TiN Metal Gate SOI-MOSFETs Fabricated on Half-Inch Minimal Wafers", International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM), Tokyo, 2018/9.