Гибридный процесс

Наличие специальных адаптеров под стандарт 0,5 дюйма позволяет легко интегрировать линейку Minimal Fab под существующие производственные мощности лаборатории или предприятия для производства ИС, организовав, таким образом, гибридный процесс производства.

Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Shiro Hara. A MOSFET Fabrication Using a Maskless Lithography System in Clean-Localized Environment of Minimal Fab. IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, VOL. 28, NO. 3, AUGUST 2015, p.393.
2. Sommawan Khumpuang, Shiro Hara. Development of Fundamental Manufacturing Processes for Minimal Fab. International Conference on IC Design and Technology (ICICDT), 2016.