Minimal Maskless Exposure (A)
Minimal Maskless Exposure (A) - Установка безмасочной фотолитографии (LED λ＝385nm). Возможна функция двустороннего выравнивания.
Ширина линии:0,5мкм. Разрешение L/S: 0,5мкм.
Описание:
- Рисование без маски сокращает время и затраты, необходимые для изготовления фотошаблона.
- Полностью автоматизированная фокусировка и выравнивание.
- Высокая точность благодаря воспроизведению тонкой линии / кривой в стандартной комплектации в режиме точной экспозиции. Реализовано высокоточное двустороннее выравнивание с оригинальным механизмом наблюдения с обратной стороны подложки (*).
(*) Функция двустороннего выравнивания является дополнительной опцией.
Принцип работы безмаскового экспонирования:
Особенностью Minimal Maskless Exposure – это экспонирование без с использованием цифрового микрозеркального устройства DMD (Digital Micromirror Device).
Изображение проецируется через маленькие зеркала размером в несколько десятков мкм, расположенных в виде сетки, и непосредственно экспонируется пластину, а перемещение столика образца позволяет полностью засветить всю ее площадь.
Поскольку фотомаска не требуется, стоимость от разработки прототипа может быть значительно уменьшена.
Кроме того, использование светодиодного источника света сокращает размеры установки, минимальные технические характеристики, не требующие чистой комнаты, а также значительно сокращают энергопотребление. Minimal Maskless Exposure - это система безмаскового экспонирования, которая сочетает в себе простое управление и экологически чистые стандарты.
Тестовое разрешение:
Актуальное разрешение L/S: 1 мкм
Актуальное разрешение L/S: 1 мкм
Пиксельное разрешение: 0.5 мкм/пиксель
Пиксельное разрешение: 0.1 мкм/пиксель
Спецификация
| Размеры и вес оборудования | |
|---|---|
| Размеры | Ш х В х Г:294х1440х450 мм |
| Вес | 150 кг (без химических реактивов) |
| Подключение | |
| Питание | 1 фаза, ~100В, 300 Вт, 50/60 Гц |
| Сжатый воздух | 0,45 – 0,8МПа |
| Конфигурация устройства | |
| Система загрузки подложки | Air PLAD |
| Подложка: | 12,5 мм |
| Экспонирование | |
| Метод экспонирования | Сканирующий тип с использованием цифрового микрозеркального устройства DMD (Digital Micromirror Device). |
| Выравнивание фокуса | Полностью автоматизированная фокусировка и выравнивание. |
| Источник света | LED（λ＝385нм） |
| Разрешение | 0.5мкм, 1.0мкм（L/S） |
| Пиксельное разрешение | 0.05мкм/пиксель(x10), 0.1 мкм/пиксель (x5) 0.125 мкм/пиксель (x4), 0.25 мкм/пиксель (x2) |
Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, 2013, Vol.133 No.9 pp.272-277.
2. Shiro Hara, SEAJ Journa,l 2014,4 No. 145.
3. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, VOL. 28, NO. 3, AUGUST 2015.