TOKYO BOEKI - официальный дистрибьютор Minimal Fab на территории России, странах СНГ и Европе
RU | EN
ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ЛИНИИ
Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

Minimal EB Exposure

Minimal EB Exposure - Установка электронно-лучевого экспонирование. Разрешение L/S: 200 нм.

Описание:

- Электронно-оптическая колонна высокого разрешения с электронной пушкой типа Шоттки.
- Система объединяет функции наблюдения и экспонирования.
- Функция выравнивания с помощью прецизионного автоматического столика.
- Отсутствие загрязнения, полностью сухим вакуумным выхлопом.

Производительность экспонирования
Толщина пленки 200 нм
Чувствительность 30 мС/см2
Ускоряющее напряжение 10 кВ
Скорость рисования 5 мин/мм2

Дополнительные возможности

Функция измерения длины:



Фоторезист: ZEP520A (Xeon).

Спецификация

Размеры ивес оборудования
Размеры Ш х В х Г:294х1440х450 мм
Вес 100 кг
Подключение
Питание 1 фаза, ~100В, 4А, 50/60 Гц
Сжатый воздух 0,45 – 0,8МПа
Конфигурация устройства
Система загрузки подложки Vac PLAD
Подложка 12,5 мм
Столик X-Y-Z-R,моторизированный
Производительность экспонирования
Минимальная ширина линии 250 нм илименьше
Ускоряющее напряжение -0.5 ̴ -15 кВ с шагом 0.1 кВ
Точность сшивки ±0.3 мкмили меньше
Точность выравнивания ±0.6 мкм или меньше
Производительность колонны
Разрешение 10 нм при15 кВ
Увеличение 50 ̴ 100 000 крат
Ток зонда 1 пА ̴ 1нА
Детектор Детектор вторичных электронов