![](/assets/templates/main/img/equipment/eksponirovanie/minimal-developer/developer-1.jpg)
Minimal Developer - Установка для проявления фоторезиста после экспонирования.
Описание:
![](/assets/templates/main/img/equipment/eksponirovanie/minimal-developer/developer-2.jpg)
Стабильная однородность ширины линии после проявления 0,5-дюймовой круглой подложки (толщина пленки 1 мкм, ширина линии 1). Диапазон изменения размеров < 5,0 %.
![](/assets/templates/main/img/equipment/eksponirovanie/minimal-developer/developer-3.jpg)
Результат анализа шаблона после проявления.
![](/assets/templates/main/img/equipment/eksponirovanie/minimal-developer/developer-4.jpg)
Подложка после проявления.
Спецификация
Размеры и вес оборудования | |
---|---|
Размеры | Ш х В х Г:294х1440х450 мм |
Подключение | |
Питание | 1 фаза,~100В, 10А, 50/60 Гц |
Сжатый воздух | 0,5 МПа, 20 л/мин |
Азот (газ) | 0,4 МПа, 5л/мин |
Общий выхлоп | 200 л/мин, 200 Па |
Конфигурация устройства | |
Система загрузки подложки | Air PLAD |
Задвижка | Заслонка резинового типа |
Камера очистки | Закрытого типа, двухкамерная |
Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, Vol.133 No.9 pp.272-277