Minimal Developer - Установка для проявления фоторезиста после экспонирования.

Описание:

Стабильная однородность ширины линии после проявления 0,5-дюймовой круглой подложки (толщина пленки 1 мкм, ширина линии 1). Диапазон изменения размеров < 5,0 %.

 

Результат анализа шаблона после проявления.

Подложка после проявления.

Спецификация

Размеры и вес оборудования
Размеры	Ш х В х Г:294х1440х450 мм
Подключение
Питание	1 фаза,~100В, 10А, 50/60 Гц
Сжатый воздух	0,5 МПа, 20 л/мин
Азот (газ)	0,4 МПа, 5л/мин
Общий выхлоп	200 л/мин, 200 Па
Конфигурация устройства
Система загрузки подложки	Air PLAD
Задвижка	Заслонка резинового типа
Камера очистки	Закрытого типа, двухкамерная

Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, Vol.133 No.9 pp.272-277