TOKYO BOEKI - официальный дистрибьютор Minimal Fab на территории России, странах СНГ и Европе
RU | EN
ПРОИЗВОДСТВЕННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ЛИНИИ
Телефон:
+7-495-223-4000
Факс:
+7-495-223-4001
E-mail:
main@tokyo-boeki.ru

Minimal Developer - Установка для проявления фоторезиста после экспонирования.

Описание:

Стабильная однородность ширины линии после проявления 0,5-дюймовой круглой подложки (толщина пленки 1 мкм, ширина линии 1). Диапазон изменения размеров < 5,0 %.

 


Результат анализа шаблона после проявления.

Подложка после проявления.

Спецификация

Размеры и вес оборудования
Размеры Ш х В х Г:294х1440х450 мм
Подключение
Питание 1 фаза,~100В, 10А, 50/60 Гц
Сжатый воздух 0,5 МПа, 20 л/мин
Азот (газ) 0,4 МПа, 5л/мин
Общий выхлоп 200 л/мин, 200 Па
Конфигурация устройства
Система загрузки подложки Air PLAD
Задвижка Заслонка резинового типа
Камера очистки Закрытого типа, двухкамерная

Литература:
1. Sommawan Khumpuang, Hitoshi Maekawa, Shiro Hara, IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, Vol.133 No.9 pp.272-277